半导体材料设备工业化的园品是现在工业化的园品的重要的组成了地方，其生育工作中会导致许多的有机有机排放物管控管控。之中，含砷有机有机排放物管控管控是一个种无从处置的含毒有机有机排放物管控管控，其所包含高密度的砷化学元素，对人们和环保产生的害处性更加大。如此，半导体材料设备含砷有机有机排放物管控管控的管控一种是工业化的园品前沿技术的技术难题。

半导体设备含砷尾气的主要的的成分是砷化氢（sH3）和三级甲等医院基砷（TM）。至少，砷化氢就是种结晶体、有害物、易燃易爆的混合气体，有极具的损坏功效，能危害身体组织的DN，从而导致中毒症状甚生亡；而三级甲等医院基砷则就是种有机的砷类化合物，同时有害物性。

半导体材料含砷烟粉尘的管控方式

半导体技术含砷废气排放的管治具体方法主耍有电磁学离心分离法、物理化学离心分离法、吸取法、引燃法、光解法、等阴离子体法等。

1.物理上的活性炭吸附法

电学粘附法是用粘附剂对含砷废液完成粘附，将其转变成为粉状或固态要素，电学粘附法有着运作比较简单、系统交易少、工作制造费低等优势之处，但其整理效用受区域环境气温、干湿度等重要因素的损害，整理后的粘附剂很难再运用用。

2.有机化学降解法

化工物理吸收剂法是进行化工影响将含砷烟气中的害处组分物理吸收剂在物理吸收剂剂上，以化工物理吸收剂法还具有操作速率高、操作后的物理吸收剂剂非常容易操作等优点和缺点，但其成本价较高，

3.降解法

获取的作用法是采取获取的作用剂对含砷烟气做出获取的作用，将其生成为饱和盐溶液姿态，获取的作用法都具有加工有效率更高、加工后的饱和盐溶液非常易加工等缺点有哪些，但其自动运行资金较高，机械设备交易巨大。

4.熔化法

熔化法是将含砷的废气废气做好熔化，将辐射危害成份氧化的为无毒性类物质，熔化法具备着补救错误率高、补救后的的废气废气可以废气等优势，但其设备进行投资越大，

5.光解法

光解法是利用紫外线对含砷的废气做溶解，将其还原成为有害成分，光解法体现了整理速度高、运作非常简单等的特点，但其整理实际效果受紫外线构造、激发光谱等客观因素的应响，且机械设备投资加盟明显。

6.等阳离子体法

等阳化合物体法是根据等阳化合物体对含砷排放口物做好整理，将有危害性的组成转变为无味材料，等阳化合物体法更具整理成功率高、整理后的排放口物非常易排放口等的特点，但其装置成本太大，

总合一起来看，有差异的半导体材料含砷印刷工业废气排放管治方案有优弱项。在合理应运中，应不同工业企业生产的的实际的症状和的环保条件开展决定。譬如，对待那些加工量很高的含砷印刷工业废气排放，能够 决定机械吸出法或生物吸出法；对待那些加工功能条件较高的含砷印刷工业废气排放，则能够 决定消化法、助燃法或等亚铁离子体法。

半导体芯片含砷烟气的管理是一种个更复杂而很重要的难题，是需要綜合综合考虑产业生产方式的详细事情、环境必须并且 管理最简单的方法的优问题等多家角度。